AMC在線監(jiān)測空氣分子污染的實時監(jiān)測對于半導體生產過程非常重要。快速監(jiān)視，警報，低濃度測量，寬測量范圍以及對多種氣體的高度敏感響應是半導體行業(yè)的要求。深紫外光刻工藝特別注意氨，胺，N-甲基吡咯烷酮NMP，酸等的濃度測量。當這些氣體與化學放大的光致抗蝕劑反應時，它們會嚴重影響半導體器件的質量。傳統的古代方法大多使用間接測量和分析方法，包括沖擊濾池，離子色譜法，化學熒光法，這些方法分析速度太慢，操作過程太復雜，價格昂貴且測量結果不準確。
 

　　AMC在線監(jiān)測技術解決了AMC（空氣分子污染物）監(jiān)測的問題，該監(jiān)測可以快速測量NH3，HCL，HF的痕量水平，使用脈沖熒光測量SO2，并使用增強的GC-FID測量VOC。3100S系列空氣分子污染物監(jiān)測系統可測量NH3，HCL，HF的痕量水平，并整合了uVOC-CAM的特性。它是用于半導體行業(yè)中潔凈室AMC（空氣分子污染）測量的強大工具。

　　AMC在線監(jiān)測還集成了一個多點監(jiān)測系統，該系統可以按順序將氣體泵送到分析儀或傳感器，并讀取測量結果。3100S內嵌的警報，報告和分析軟件是由在半導體行業(yè)具有多年經驗的工程師共同開發(fā)的。使用以太網，RS485/RS232或4-20mA模擬量模塊從4?6個分析儀或傳感器輸出數據。每臺分析儀均配有用于數據存儲和數據輸出的內置計算機，還支持遠程網絡控制，操作或診斷。